三星加速6nm、台积电7nm流片13次!Intel新工艺无期

1949idc 2年前 (2024-11-11) 阅读数 333 #人工智能

随着10nm芯片逐步渗透进消费电子产品,新的制程探索也在加速。目前已公布的7nm路线图中,GF和台积电的速度最快,三星事实落后。

三星加速6nm、台积电7nm流片13次!Intel新工艺无期

据韩媒报道,三星决定加快6nm的步伐,其中试产2019年初开启,量产在2019年下半年开工。此举旨在和台积电抢夺2019年高通和苹果的手机芯片代工合同。

三星加速6nm、台积电7nm流片13次!Intel新工艺无期

有媒体报道称,台积电目前已经流片了13张7nm样品芯片,2018年即可开始批量生产。

荷兰艾司摩尔表示,EUV(极紫外)光刻机可用于7/6/5nm工艺,Intel、台积电、三星等都采购了相关设备。

只是,目前唯一没有披露10nm以下明确规划的就是Intel了。

如需获取更多资讯,请关注全球半导体观察官网(www.dramx.com)或搜索微信公众账号(全球半导体观察)。

版权声明

本文内容由互联网用户自发贡献,该文观点仅代表作者本人
本站仅提供信息存储空间服务,不拥有所有权,不承担相关法律责任。

© 2010 首途云安 & 厦门硕顿信息技术有限公司 & 闽ICP备11016866号  增值电信业务经营许可证:B1-20203020 地址:福建厦门思明区嘉禾路297号1806
高新技术企业
软件产品证书
计算机软件著作权
ISO认证
国家3A企业