湖北武汉光谷实验室研发出高性能量子点光刻胶

据中国光谷消息，近日，湖北光谷实验室、华中科技大学集成电路学院和光电子器件与三维集成团队的张建兵等人与广纳珈源（广州）科技有限公司合作，研发出高性能量子点光刻胶（QD-PR），其蓝光转换效率达到44.6%（绿色）和45.0%（红色），光刻精度达到1um，各项性能指标为行业领先水平。

中国光谷消息介绍称，2023年胶体量子点获得诺贝尔奖，因具有发光半峰宽窄、颜色可调、效率高、粒径小等优异的性能，是配合蓝光micro-LED的荧光材料的理想选择。量子点色转换层需要像素化才能与蓝光micro-LED阵列配合，当前实现量子点像素化的方案主要有两种：喷墨打印和光刻。相较而言，光刻精度更高、获得的量子点像素更小，更适合于高PPI的AR、VR应用。

据了解，基于高性能的量子点光刻胶，研究团队实现了高精度的量子点像素。此外，这些量子点色转换像素还表现出优异的稳定性，在空气中75℃加热120小时后仍能保留原始发光性能的92.5%（红色）和93.4%（绿色）。

封面图片来源：拍信网

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